Balicki Marcin, Ochrona wzorów użytkowych

Przedmiotem niniejszej książki jest przedstawienie genezy ochrony patentowej drugiego rzędu (poziomu), w tym ochrony wzorów użytkowych oraz umiejscowienia tej ochrony pomiędzy patentami a wzorami przemysłowymi i omówienie najważniejszych modeli ochrony patentowej drugiego rzędu a następnie, na tak zarysowanym tle, analiza dogmatyczna modelu ochrony wzoru użytkowego w Polsce.

W pierwszej części publikacji podjąłem próbę ustalenia genezy praw wyłącznych takiego typu jak wzór użytkowy, zidentyfikowania interesów gospodarczych stojących za ich wprowadzaniem, a także ich miejsca w systemie prawa własności przemysłowej. Zręby ochrony rozwiązań technicznych niespełniających wymogów patentowalności – określanych ogólnym mianem systemu patentowego drugiego rzędu – są niewiele młodsze niż sam „właściwy” system patentowy. Potrzeba ochrony takich rozwiązań za pomocą innego niż klasyczny patent prawa wyłącznego przeważnie wynika z niewydolności systemu patentowego, bądź z jego immanentnego niedostosowania do potrzeb krajów rozwijających się lub niektórych sektorów gospodarki; sektorów, gdzie wytwarzane są produkty funkcjonalne dzięki zastosowaniu rozwiązania niedostatecznie doniosłego technicznie i zarazem łatwego do naśladowania. Poznawanie istoty takich rozwiązań, chociażby w drodze tzw. inżynierii wstecznej, oraz natychmiastowe ich imitowanie są stosunkowo łatwe. Twórca kopiowanego rozwiązania jest więc nieraz pozbawiony naturalnej przewagi czasowej nad konkurentami, wynikającej z pierwszeństwa we wprowadzeniu na rynek nowoczesnego produktu. Jednocześnie, skoro esencją rozwiązania jest jego techniczna przydatność, to twórca nie może się zabezpieczyć przed konkurencją, uzyskując prawo wyłączne na wzór przemysłowy bądź majątkowe prawo autorskie albo korzystając z instrumentów prawa zwalczania nieuczciwej konkurencji. Z powodu zbyt niskiego zaawansowania technicznego poza zasięgiem twórcy pozostaje ochrona patentowa. Zresztą czas i koszty na uzyskanie patentu pozostawałyby przeważnie niewspółmierne do wartości rozwiązania objętego wzorem użytkowym.

Co prawda trzonem publikacji jest analiza uregulowań krajowych, lecz ich pełne zrozumienie wymaga wcześniejszego poznania teorii, przemawiających zarówno za zasadnością wprowadzania ochrony patentowej drugiego rzędu, jak i za jej nieprzydatnością, dyskusji toczących się w łonie Association Internationale pour la Protection de la Propriété Intellectuelle (AIPPI) i w toku prac Komisji Europejskiej, jak również przedstawienia roli i kształtu patentów drugiego rzędu w zagranicznych porządkach prawnych.

Prawo wyłączne do wzoru użytkowego albo prawo do niego zbliżone przewidują porządki prawne kilkudziesięciu państw. Historycznie przedmiot ochrony wzornictwa użytkowego ograniczony był do obiektów trójwymiarowych, lecz z czasem w wielu krajach dokonywano zmian w tym zakresie. Rozszerzanie przedmiotu ochrony wiązało się zwykle z ustanawianiem dłuższej listy wyłączeń niż ta konstruowana na potrzeby patentu, wykluczano na przykład z tej formuły ochrony sposoby postępowania. Wspólne wszystkim regulacjom jest jednak traktowanie wzoru użytkowego jako rozwiązania o charakterze technicznym, które odznacza się przemysłową stosowalnością i przynajmniej lokalną nowością. Więcej wątpliwości rodzi sformułowanie dodatkowej przesłanki – mającej stanowić odmianę nieoczywistości, znanej w odniesieniu do wynalazku lub mającej wyrażać oczekiwanie, aby zgłaszane rozwiązanie odznaczało się pewną przydatnością techniczną. Stosunkowo rzadko spotykane jest zjawisko rezygnacji z takiej przesłanki, na co polski ustawodawca zdecydował się w 2020 roku. Postępowanie zgłoszeniowe ma przeważnie charakter rejestrowy. Część krajów umożliwia równoczesne zgłoszenie wzoru użytkowego i patentu oraz ich jednoczesne rozpatrywanie, zaś inne poprzestają na umożliwieniu konwersji zgłoszenia na zgłoszenie patentowe, zwłaszcza w przypadku wydania przez urząd patentowy decyzji odmawiającej opatentowania zgłoszonego rozwiązania. Ponadto maksymalny czas ochrony wzoru użytkowego jest prawie zawsze krótszy – waha się on od sześciu do piętnastu lat. Praktycznie w każdym państwie wśród zgłaszających dominują podmioty lokalne, co sugeruje, że do mechanizmów powodujących ustanawianie takiego prawa wyłącznego należy być może dodać wolę wspierania tworzenia innowacji przez lokalnych przedsiębiorców.

Na tak zarysowanym tle omawiam w niniejszej publikacji te elementy polskiego modelu ochrony wzoru użytkowego, które są nieodzowne do jego oceny w świetle międzynarodowych doświadczeń i propozycji doktrynalnych. Szczególną uwagę poświęciłem więc ukształtowaniu przedmiotu ochrony, sformułowaniu przesłanek przemysłowej stosowalności i nowości, a ponadto sposobowi uzyskiwania prawa ochronnego. Omawiam też wątpliwości co do zakresu przedmiotowego prawa ochronnego na wzór użytkowy, ponieważ stanowią one o specyfice krajowej regulacji.

Zgodnie z tezą, której trafność starałem się zweryfikować w niniejszej książce, konstrukcja prawna polskiej instytucji wzoru użytkowego nie pozwala na pełnienie przez nią funkcji, jakie przypisuje się współcześnie ochronie patentowej drugiego rzędu. W konsekwencji wspomniana instytucja ma bardzo ograniczone znaczenie dla wspierania innowacyjności krajowych przedsiębiorstw i wymaga dalszych zmian.

W opracowaniach naukowych w zakresie własności przemysłowej brak jest jednolitej terminologii w odniesieniu do instytucji służących do ochrony różnego rodzaju rozwiązań technicznych niebędących wynalazkami patentowalnymi. Autorzy posługują się pojęciem „wzór użytkowy” oraz „patent drugiego rzędu”, a także „rozwiązanie techniczne” i „wynalazek subpatentowalny”. Dlatego w ramach uwag wstępnych konieczne jest wyjaśnienie kwestii terminologii stosowanej w tej publikacji. Na jej potrzeby przez pojęcie „klasyczny wzór użytkowy” rozumiem ochronę nowych i przemysłowo stosowalnych rozwiązań technicznych ucieleśnionych w obiektach przestrzennych (rozwiązań konstrukcyjnych), które ponadto odznaczają się pewnym poziomem technicznym lub użytecznością. W tym kontekście „wzór użytkowy” odnosi się do wskazanego wyżej rozwiązania, niezależnie od tego, czy jest ono rozwiązaniem konstrukcyjnym. „Wynalazkiem subpatentowalnym” jest natomiast każde rozwiązanie techniczne cechujące się przemysłową stosowalnością, nowością oraz pewną doniosłością techniczną – niewystarczającą do uznania go za wynalazek patentowalny. Użytkowe znaczenie wynalazku tego rodzaju jest irrelewantne. Z kolei „ochrona patentowa drugiego rzędu” to pojęcie obejmujące wszelkiego rodzaju alternatywne względem patentu reżimy ochrony – zarówno ochronę wzornictwa użytkowego w klasycznym i „nieklasycznym” ujęciu, jak i patenty na wynalazki udzielane w postępowaniu rejestracyjnym, przeważnie na krótszy maksymalny okres. Przedmiotem takiego patentu może być zarówno wynalazek subpatentowalny, wynalazek (patentowalny), jak i wzór użytkowy. W konsekwencji, patent drugiego rzędu jest pojęciem obejmującym prawo wyłączne do wzoru użytkowego i wynalazku subpatentowalnego, a także patent na wynalazek udzielany w drodze rejestracji, jeśli równolegle funkcjonuje tam system udzielania patentów.

Brak ujednolicenia terminologii w literaturze przedmiotu i poszczególnych porządkach prawnych powoduje, że na pewnym poziomie ogólności patent drugiego rzędu i wzór użytkowy to faktycznie pojęcia zamienne . Nieraz prawo wyłączne określane jako patent odnosi się do rozwiązania technicznego, które nie spełnia kryteriów patentowalności w rozumieniu polskiej ustawy – Prawo własności przemysłowej bądź Porozumienia TRIPS. Z tego względu omawiając poszczególne teorie, proponowane modele ochrony bądź uregulowania krajowe stosuję nomenklaturę w nich przyjętą. Jednocześnie w tytule książki odwołuję się do pojęcia „wzoru użytkowego”, ponieważ u źródeł koncepcji ochrony patentowej drugiego rzędu leży ochrona klasycznych wzorów użytkowych, pojęciem wzoru użytkowego posługuje się większość porozumień międzynarodowych, a także regulacji w państwach przewidujących ochronę patentową drugiego rzędu. Wreszcie pojęciem wzoru użytkowego posługuje się polski ustawodawca, a ocena krajowej instytucji jest centralnym punktem książki.